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電鏡用鍍膜儀的主要功能及技術(shù)參數(shù)

點擊次數(shù):792 更新時間:2021-06-25
  電鏡用鍍膜儀可以提供噴碳和濺射兩種工作模式。此外,系統(tǒng)配有膜厚晶振儀,可以對膜厚進行準確的控制。設(shè)備采用觸摸屏控制,過程全自動操作。
 
  電鏡用鍍膜儀配置為濺射鍍膜機或碳絲蒸發(fā)鍍膜機后,可以在全自動化系統(tǒng)中獲得*可重復的結(jié)果,實現(xiàn)了一臺EM ACE200具有噴金儀,噴碳儀,蒸鍍儀三種功能。如果您的分析需要這兩種方法,徠卡顯微系統(tǒng)在一臺儀器中提供可互換機頭的組合儀表。各個選項,如石英晶體測量、行星旋轉(zhuǎn)、輝光放電和可交換屏蔽共同構(gòu)成這臺低真空鍍膜機。
 
  電鏡用鍍膜儀的技術(shù)參數(shù):
 
  可任選離子濺射模式、碳絲蒸發(fā)鍍碳模式,或者雙模式,可選輝光放電(用于網(wǎng)格表面親水化)
 
  設(shè)計脈沖式碳絲蒸發(fā)方式,可準確控制碳膜厚度
 
  可選石英膜厚檢測器,準確控制鍍膜厚度,精度達0.1nm
 
  全自動程序控制,自動完成抽真空,鍍膜,放氣等過程
 
  觸摸屏控制,簡單方便
 
  真空度7×10-3mbar
 
  濺射電流:0-150mA可調(diào)
 
  方形樣品倉設(shè)計,樣品倉尺寸:140mm(寬)×145mm(深)×150mm(高)
 
  工作距離調(diào)節(jié)范圍:30mm-100mm
 
  電鏡用鍍膜儀的技術(shù)指標:
 
  薄膜沉積模式: 噴碳,以及濺射(Pt等)
 
  系統(tǒng)真空度: 10-6mbar
 
  濺射靶材直徑: 54mm
 
  碳絲蒸發(fā)較大功率: 700W
 
  濺射電流: 15~150mA
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